Overcomingmask blank defects in EUV lithography

机译：突破性地减少EUV面膜毛坯

机译：SEMATECH实现了突破性的EUV掩模板缺陷减少

机译：无缺陷的口罩可以解决下一个EUV挑战

机译：高效的多管芯放置，可减轻EUV光刻中的空白缺陷

机译：具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。

机译：高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性：材料设计策略和绩效结果综述

机译：EUV光刻的幻影图案掩模缺陷检测

机译：新型EUV面罩空白缺陷修复发展

机译：用于EUV光刻的掺钛石英玻璃镜面毛坯的制造方法及毛坯中缺陷位置的确定系统

机译：用于制备用于EUV光刻的掺钛石英玻璃的镜面基板毛坯的方法以及确定毛坯中缺陷位置的系统

机译：用于EUV光刻的钛掺杂硅玻璃的镜下基质空白的制备方法以及空白中缺陷位置的测定系统